2M2AD2 | Stage de technologie RENNES | Matériaux et Chimie | S8 | ||||||
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Cours : 12 h | TD : 30 h | TP : 0 h | Projet : 0 h | Total : 42 h | |||||
Responsable : Jean-Michel Rueff |
Pré-requis | |
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2M2AD1 | |
Objectifs de l'enseignement | |
Ce stage d'une semaine permet de réaliser en salle blanche la fabrication complète de transistor PMOS et de structures de type MEMS jusqu'à leur caractérisation. | |
Programme détaillé | |
Fabrication d'un PMOS en 4 masques. Oxydation épaisse. Ouverture Drain -Source. Oxydation de grille. Ouverture des contacts. Métallisation, définition des pistes. Caractérisations électriques. Réalisation et caractérisation de poutres MEMS en polysilicium. |
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Applications (TD ou TP) | |
Non renseigné | |
Compétences acquises | |
A l'issue de ce stage les étudiants possèdent une expérience pratique de la réalisation et de la caractérisation de structures de type PMOS et de MEMS. | |
Bibliographie | |
Non renseigné |
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